光刻机（Mask Aligner)又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。手动，对准精度不高；半自动，通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；自动...
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