光刻机（Mask Aligner)又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。手动，对准精度不高；半自动，通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；自动...
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金中都光源里遗址位于北京市西城区右安门内白纸坊东街以南（图1）。2019年以来，为配合当地棚户区改造项目工程建设，北京市考古研究院对遗址持续开展考古工作，迄今为止发掘面积达17000平方米，揭露出河道、道路、水井、灶、灰坑和成规模的建筑基址等大量遗迹现象，其中尤以2022年在发掘区北部揭露出的早、晚...
2023-03-194阅读全文 >>
